愛發(fā)科上市了生產(chǎn)效率高達(dá)原來5倍的量產(chǎn)用干蝕刻(Dry Etching)裝置。主要面向發(fā)光二極管(LED)和激光二極管。計(jì)劃從07年12月起開始供貨，08年銷售30～40臺(tái)。價(jià)格為1億2000萬日元。

　　該裝置采用了愛發(fā)科在化合物半導(dǎo)體市場(chǎng)上積累的工藝技術(shù)。用于LED生產(chǎn)時(shí)，原來只能放置1片100mm晶圓，而該裝置可同時(shí)處理5片。此外，50mm晶圓的處理數(shù)量從8片提高至21片，75mm晶圓從4片提高至9片，從而提高了生產(chǎn)效率。

　　愛發(fā)科在化合物半導(dǎo)體(用于LED和激光二極管)、藍(lán)寶石、碳化硅、貴金屬和氧化膜等的蝕刻技術(shù)方面擁有豐富的經(jīng)驗(yàn)技術(shù)。該公司將提供可實(shí)現(xiàn)上述處理應(yīng)用(Process Application)的設(shè)備和工藝。

　　愛發(fā)科將以綜合實(shí)力涉足以發(fā)光元件為主的化合物半導(dǎo)體市場(chǎng)，將供應(yīng)干蝕刻裝置、真空蒸著裝置、濺射裝置和化學(xué)氣相沉積(CVD)裝置等，今后將繼續(xù)加強(qiáng)此類解決方案的開發(fā)。

　　另外，愛發(fā)科預(yù)定在“Semicon Japan 2007”(07年12月5～7日在千葉縣幕張Messe會(huì)展中心召開)上展出該裝置。（編輯：PCL）