國內(nèi)首臺高端LED芯片制造用ICP刻蝕機交付使用
摘要： 近日，由北方微電子開發(fā)的ELEDETM330高密度等離子ICP刻蝕機完成組裝調(diào)試，正式交付客戶使用。ELEDETM330是北方微電子半導體刻蝕技術在LED領域的成功擴展，該設備的成功上線，標志著國產(chǎn)LED刻蝕設備已得到主流生產(chǎn)線的認可，使我國高端LED設備的國產(chǎn)化水平得到了新的提升。作為我國首臺直接面向LED生產(chǎn)線的大產(chǎn)能刻蝕設備，ELEDE?330可滿足藍寶石襯底圖形化刻蝕、Si襯底刻蝕以及GaN基外延層刻蝕等LED領域所有刻蝕應用。
近日，由北方微電子開發(fā)的ELEDETM330高密度等離子ICP刻蝕機完成組裝調(diào)試，正式交付客戶使用。ELEDETM330是北方微電子半導體刻蝕技術在LED領域的成功擴展，該設備的成功上線，標志著國產(chǎn)LED刻蝕設備已得到主流生產(chǎn)線的認可，使我國高端LED設備的國產(chǎn)化水平得到了新的提升。作為我國首臺直接面向LED生產(chǎn)線的大產(chǎn)能刻蝕設備，ELEDE™330可滿足藍寶石襯底圖形化刻蝕、Si襯底刻蝕以及GaN基外延層刻蝕等LED領域所有刻蝕應用。
ELEDE™330采用了適用于大規(guī)模生產(chǎn)的高產(chǎn)能設計，一次可完成27片2英寸GaN基外延層刻蝕或22片2英寸藍寶石襯底刻蝕，大大提高設備產(chǎn)出效率；系統(tǒng)集成了高密度等離子體源、高壽命機械卡盤、精密的腔室溫度控制系統(tǒng)、穩(wěn)定的高精度壓力控制系統(tǒng)、IC標準的中央噴嘴進氣系統(tǒng)和IC級別的腔室表面處理等多項先進技術，用IC刻蝕工藝更為精密的設計要求來實現(xiàn)LED領域更高性能的刻蝕工藝，以更大程度地提高LED芯片的發(fā)光效率。
（編輯:FJ）
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