日前，MicroTech公司開發(fā)了一種用于制備藍寶石圖形襯底的濕法處理工作站，通過工作站大批量腐蝕藍寶石，增加高亮度LED的光提取和外量子效率。這一濕法刻蝕工藝可以大規(guī)模提高產量以降低成本，生產成本是目前LED與熒光燈照明競爭的主要阻礙。對于LED制造商成本的降低，PSS襯底的使用變的非常重要，PSS上的LED的平均光輸出功率相比常規(guī)藍寶石襯底上提高了37%，PSS的使用既降低了GaN外延層的位錯密度，提高了LED光提取效率。

　　傳統(tǒng)的干法刻蝕PSS圖形襯底對增加LED效率很有效，但產量較低，可控性受襯底尺寸增加的影響很多，晶片尺寸增加時需要更多的刻蝕工具來維持產量。在MicroTech系統(tǒng)的濕法刻蝕過程比較簡單，采用PECVD在藍寶石晶片上沉積一層圖形SiO2掩膜，光刻曝光要刻蝕的圖形，然后把晶片浸入裝有刻蝕劑和緩沖劑的刻蝕槽中。寶石刻蝕過程在260℃和300℃之間進行，這一超高溫比常規(guī)150-180℃腐蝕過程刻蝕速率快很多，因此顯著增加產量。中立的消費者評估顯示這種PSS圖形襯底對LED的光提取和效率有顯著提高，即使在刻蝕后進行晶片拋光仍然如此，同時成本也明顯下降。采用化學機械拋光以改善PSS晶片上的圓頂形狀的工作正在進行中，同時新型的無圓錐形圖形也在發(fā)展中。

　　最近，MicroTech公司宣布將類似概念的腐蝕工作站運用到太陽能電池產業(yè)領域，把傳統(tǒng)干法CVD過程替換為批量生產的、環(huán)境友好的濕法過程，實現(xiàn)高的生產量和低的成本。