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VEECO推出高產(chǎn)能離子束沉積鍍膜機系統(tǒng)

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2012-04-18 作者:LEDth 來源:新世紀LED網(wǎng) 瀏覽量: 網(wǎng)友評論: 0

摘要: 4月16日,Veeco公司在比利時布魯塞爾正式發(fā)布了應用于光學鍍膜的離子束沉積(IBD)系統(tǒng)SPECTOR-HT?。與前一代的鍍膜機設備SPECTOR相比較,SPECTOR-H?最多能提供400%的產(chǎn)能增長,靶材使用率提高300%,材料生長的均勻性提高50%。

  【新世紀LED網(wǎng)】4月16日,Veeco公司(納斯達克股票代碼:VECO)在比利時布魯塞爾Square Brussels Meeting Centre由國際光學工程學召開的歐洲光子學展上,正式發(fā)布了應用于光學鍍膜的離子束沉積(IBD)系統(tǒng)SPECTOR-HT™。與前一代的鍍膜機設備SPECTOR相比較,SPECTOR-H™最多能提供400%的產(chǎn)能增長,靶材使用率提高300%,材料生長的均勻性提高50%。此外,該新系統(tǒng)提供卓越的薄膜質量,并為各種光學應用提供低成本的生產(chǎn)平臺,包括精密光學、激光、生命科學、生物醫(yī)學設備以及通信。

  Veeco離子束設備執(zhí)行副總裁Robert P. Oats表示:“Veeco在全球安裝超過200臺設備,是公認的光學業(yè)內離子束沉積鍍膜的領導者。與其他相關技術相比,例如物理氣相沉積(PVD),蒸發(fā)鍍膜或者里子輔助沉積,新一代的SPECTOR-HT™系統(tǒng)提供無與倫比的產(chǎn)能優(yōu)勢和低成本平臺。”

  SPECTOR-HT™ 是業(yè)內首個完全自動化的離子束沉積系統(tǒng)。實現(xiàn)了在媲美PVD的快速沉積速率下保證高質量、優(yōu)化薄膜以滿足挑戰(zhàn)性的生產(chǎn)要求。在批量生產(chǎn)時新系統(tǒng)要比前一代的SPECTOR沉積速律快2倍。

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