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圖形藍寶石襯底GaN基發(fā)光二極管的研制

上傳人:張俊兵、林岳明、范玉佩、王書昶、曾祥華

上傳時間: 2013-04-11

瀏覽次數(shù): 49

作者張俊兵、林岳明、范玉佩、王書昶、曾祥華
單位揚州大學物理科學與技術(shù)學院;揚州華夏集成光電有限公司
分類號TN312.8
發(fā)表刊物《光電子.激光》
發(fā)布時間2010年

  摘要:采用抗刻蝕性光刻膠作為掩膜,并利用光刻技術(shù)制作周期性結(jié)構(gòu),進行ICP干法刻蝕C面(0001)藍寶石制作圖形藍寶石襯底(PSS);然后,在PSS上進行MOCVD制作GaN基發(fā)光二極管(LED)外延片;最終,進行芯片制造和測試。PSS的基本結(jié)構(gòu)為圓孔,直徑為3μm,間隔為2μm,深度為864 nm,呈六角形分布。與同批生長的普通藍寶石襯底(CSS)GaN基LED芯片相比,PSS芯片的光強和光通量比CSS分別提高57.32%和28.33%(20 mA),并可減小芯片的反向漏電流,且未影響芯片的波長分布和電壓特性。

  1引言作為第4代固體照明光源的發(fā)光二極管(LED),具有節(jié)能、環(huán)保、長壽命、多色彩和小體積等諸多優(yōu)點[1~3],但目前,GaN基LED內(nèi)量子效率和光的提取效率較低,一定程度上限制了其應(yīng)用。日常生產(chǎn)中,GaN基LED外延是在普通藍寶石襯底(CSS,conventional sapphire substrate)上制備的[4

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